描述：JK-CH600190-XRD冷(lěng)熱(rè)台是一種安裝在X-射線衍射儀上研究樣品變溫X-射線衍射的(de)附件。産品采用(yòng)液氮緻冷(lěng)、電阻加熱(rè)的(de)方式，提供-190~600℃（選型）或RT~1000℃（選型）溫度範圍内的(de)氣氛/真空測試環境。适合于粉末、片材樣品在變溫下(xià)進行X-射線結構研究，适配現有各種X-射線衍射儀（布魯克、賽默飛(fēi)、理(lǐ)學等）。

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品牌	其他(tā)品牌	産地類别	國産
應用(yòng)領域	環保,能源,電子,電氣,綜合

JK-XRD原位冷(lěng)熱(rè)台是一種安裝在X-射線衍射儀上研究樣品變溫X-射線衍射的(de)附件。産品采用(yòng)液氮緻冷(lěng)、電阻加熱(rè)的(de)方式，提供-190~600℃（選型）或RT~1000℃（選型）溫度範圍内的(de)氣氛/真空測試環境。适合于粉末、片材樣品在變溫下(xià)進行X-射線結構研究，适配現有各種X-射線衍射儀（布魯克、賽默飛(fēi)、理(lǐ)學等）。

産品需要與溫度控制器、緻冷(lěng)控制器（選配）配套使用(yòng)，配套的(de)上位機溫控軟件方便進行溫度設置及采集，提供的(de)Labview Vis方便客戶進行定制化(huà)編程。

産品特點：

溫度範圍-190~600℃（選型）/RT~1000℃（選型）

溫度穩定性±0.1℃（＜600℃）±1℃（＞600℃）

衍射角0～164°

X射線視窗(chuāng)Kapton膜

支持反射/透射模式

密腔室設計，可(kě)升級真空腔室（10^(-3) mBar）

可(kě)更換上蓋，作爲普通(tōng)冷(lěng)熱(rè)台使用(yòng)

可(kě)調節高(gāo)度，滿足不同厚度樣品測試更換上蓋，可(kě)用(yòng)作光(guāng)學冷(lěng)熱(rè)台，實現一機多(duō)用(yòng)

詳細參數一覽表：

XRD原位冷(lěng)熱(rè)台		JK-CH600190XV	JK-H1200XV
溫控模塊	冷(lěng)熱(rè)方式	液氮緻冷(lěng)，電阻加熱(rè)	電阻加熱(rè)
	溫控範圍	-190～600℃ *	RT～1200℃ *
	溫度穩定性	±0.1℃（＜600℃），±1℃（＞600℃）*
	溫度分(fēn)辨率	0.1℃
	升降溫速率	0~30℃/min（可(kě)定點 / 程序段控溫）
	溫控方式	PID
	溫度傳感器	PT100	熱(rè)電偶
光(guāng)學特性	光(guāng)路	反射 *
	X射線透射膜	Kapton膜
結構特性	樣品台尺寸	23×23mm *	12x12mm *
	樣品台材質	銀質 *	陶瓷 *
	外形尺寸	100×100×73mm *
	腔室	真空
	外殼冷(lěng)卻	循環水(shuǐ)
基本配置	XRD原位冷(lěng)熱(rè)台x1、溫度控制器x1、緻冷(lěng)控制器x1（低溫配置）、液氮罐x1（低溫配置）、定制支架x1、溫控軟件x1、循環水(shuǐ)系統x1、連接管路若幹
選配	電腦(nǎo)主機/定制溫控軟件/定制光(guāng)學蓋闆
備注	以上均爲默認參數 * 爲可(kě)定制項
其他(tā)可(kě)選型号	CH400-100-X（-100~400℃）