描述：JKLR-420型冷(lěng)熱(rè)台是可(kě)以使用(yòng)顯微鏡載物(wù)片載樣，且容易使用(yòng)的(de)通(tōng)用(yòng)型冷(lěng)熱(rè)台。此系列冷(lěng)熱(rè)台爲大(dà)區(qū)域冷(lěng)熱(rè)台，主要用(yòng)于等溫分(fēn)析，不需要非常高(gāo)的(de)加熱(rè)和(hé)冷(lěng)卻速率，溫度的(de)熱(rè)穩定性優于0.1°C。

JKLR-420冷(lěng)熱(rè)台

高(gāo)低溫冷(lěng)熱(rè)台的(de)結構和(hé)工作原理(lǐ)

高(gāo)低溫冷(lěng)熱(rè)台主要由制冷(lěng)系統、加熱(rè)系統、溫度控制系統和(hé)測試腔室等組成。制冷(lěng)系統通(tōng)常采用(yòng)液氮或機械制冷(lěng)，加熱(rè)系統采用(yòng)電加熱(rè)，溫度控制系統采用(yòng)高(gāo)精度的(de)溫度傳感器和(hé)控制算(suàn)法進行控制。測試腔室是一個(gè)密閉的(de)空間，可(kě)以放置需要進行溫度控制的(de)樣品。

高(gāo)低溫冷(lěng)熱(rè)台的(de)工作原理(lǐ)是将樣品放置在測試腔室中，通(tōng)過制冷(lěng)系統将測試腔室降溫到所需的(de)低溫，再通(tōng)過加熱(rè)系統将測試腔室升溫到所需的(de)室溫。在溫度控制過程中，溫度控制系統會不斷監測測試腔室的(de)溫度，并根據需要進行調整，以保證溫度的(de)精确控制。

高(gāo)低溫冷(lěng)熱(rè)台的(de)優點和(hé)應用(yòng)領域

高(gāo)低溫冷(lěng)熱(rè)台具有精度高(gāo)、穩定性好、操作簡便等優點，因此在科研和(hé)工業生産中得(de)到了(le)廣泛的(de)應用(yòng)。例如，在材料科學領域中，高(gāo)低溫冷(lěng)熱(rè)台可(kě)以用(yòng)于研究不同溫度下(xià)材料的(de)物(wù)理(lǐ)和(hé)化(huà)學性質；在航空航天領域中，高(gāo)低溫冷(lěng)熱(rè)台可(kě)以用(yòng)于模拟高(gāo)空環境中的(de)溫度變化(huà)；在電子行業中，高(gāo)低溫冷(lěng)熱(rè)台可(kě)以用(yòng)于測試半導體器件在不同溫度下(xià)的(de)性能表現。

JKLR-420型冷(lěng)熱(rè)台是可(kě)以使用(yòng)顯微鏡載物(wù)片載樣，且容易使用(yòng)的(de)通(tōng)用(yòng)型冷(lěng)熱(rè)台。此系列冷(lěng)熱(rè)台爲大(dà)區(qū)域冷(lěng)熱(rè)台，主要用(yòng)于等溫分(fēn)析，不需要非常高(gāo)的(de)加熱(rè)和(hé)冷(lěng)卻速率，溫度的(de)熱(rè)穩定性優于0.1°C。

     樣品放置在載物(wù)片上，載物(wù)片直接放置在抛光(guāng)的(de)加熱(rè)元件上且可(kě)以進行15mm的(de)X、Y方向移動。樣品腔室是氣密的(de)，氣體閥可(kě)以控制腔室内的(de)環境，即惰性氣體或濕度。爲了(le)減小樣品上的(de)溫度梯度，加熱(rè)台上的(de)光(guāng)孔隻有2.5mm。

參數：

溫度範圍：-196℃到420℃（-196℃需要冷(lěng)卻系統選項）

在線溫度/時(shí)間曲線

樣品區(qū)域53.5 x 43 mm

X、Y方向移動距離15 x 15mm

樣品夾持器76 x 26mm 标準載玻片

氣密樣品室，可(kě)以控制樣品環境

上滑蓋方便導入樣品

可(kě)用(yòng)于透射和(hé)反射光(guāng)

台體尺寸- 166 x 90 x 24 mm

100 歐姆白金傳感器

全程溫度穩定性和(hé)精度<0.1°C

内蓋可(kě)以增加溫度穩定性

最大(dà)升溫速率50°C/min

物(wù)鏡最小工作距離6 mm

聚光(guāng)鏡最小工作距離13.2 mm