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型号:
VKL-2/3/5/10系列真空等離子清洗機系統

描述:VKL-2/3/5/10系列真空等離子清洗機真空等離子清洗機是國内目前應用(yòng)廣泛的(de)真空等離清洗機,性能*,可(kě)以同時(shí)處理(lǐ)物(wù)理(lǐ)和(hé)化(huà)學等材料清洗材料。兩檔操作模式,兩路氣壓操作系統,全觸摸屏操作,處理(lǐ)參數任意設定,是目前高(gāo)校*材料清洗的(de)設備。

  • 廠商性質

    生産廠家
  • 更新時(shí)間

    2024-08-26
  • 訪問量

    1416
詳細介紹
品牌GOETTFERT/德國高(gāo)特福應用(yòng)領域醫療衛生,生物(wù)産業,電子,航天,制藥

VKL-2/3/5/10系列真空等離子清洗機系統

關鍵詞:等離子,13.56MHZ,真空清洗機,2L

産品介紹:

 

 

     VKL-2/3/5/10系列真空等離子清洗機真空等離子清洗機是國内目前應用(yòng)廣泛的(de)真空等離清洗機,性能*,可(kě)以同時(shí)處理(lǐ)物(wù)理(lǐ)和(hé)化(huà)學等材料清洗材料。兩檔操作模式,兩路氣壓操作系統,全觸摸屏操作,處理(lǐ)參數任意設定。

産品應用(yòng)領域:

1、光(guāng)學器件、電子元件、半導體元件、激光(guāng)器件、鍍膜基片、終端安裝等的(de)超清洗。清洗光(guāng)學鏡片、電子顯微鏡片等多(duō)種鏡片和(hé)載片。移除光(guāng)學元件、半導體元件等表面的(de)光(guāng)阻物(wù)質,去除金屬材料表面的(de)氧化(huà)物(wù)。
2、清洗半導體元件、印刷線路闆、ATR元件、人(rén)工晶體、天然晶體和(hé)寶石。
清洗生物(wù)芯片、微流控芯片、沉積凝膠的(de)基片。
3、高(gāo)分(fēn)子材料表面的(de)修飾。封裝領域中的(de)清洗和(hé)改性,增強其粘附性,适用(yòng)于直接封裝及粘和(hé)。改善粘接光(guāng)學元件、光(guāng)纖、生物(wù)醫學材料、宇航材料等所用(yòng)膠水(shuǐ)的(de)粘和(hé)力。
4、塗覆鍍膜領域中對(duì)玻璃、塑料、陶瓷、高(gāo)聚合物(wù)等材料表面的(de)改性,使其活化(huà),增強表面粘附性、浸潤性、相容性,顯著提高(gāo)塗覆鍍膜質量。
5、牙科領域中對(duì)钛制牙移植物(wù)和(hé)矽酮壓模材料表面的(de)預處理(lǐ),增強其浸潤性和(hé)相容性。

6、醫用(yòng)領域中修複學上移植物(wù)和(hé)生物(wù)材料表面的(de)預處理(lǐ),增強其浸潤性、粘附性和(hé)相容性。對(duì)醫療器械的(de)消毒和(hé)殺菌

 

主要技術參數:

 

 

 

型号

VKL-2

VKL-3

VKL-5

VKL-10

腔體材料

                          石英玻璃

腔體容量

2L

3L

5L

10L

内腔尺寸

100×200Lmm

150×200Lmm

150×270Lmm

220×280Lmm

射頻(pín)電源功率

0-300W 可(kě)調

射頻(pín)功率

13.56MHZ

RF放射

頻(pín)率偏移量

小于0.2KHZ

等離子體轟擊方式

從四周往中間

腔體内溫度

30°C/       65°C

清洗時(shí)間

0-9999S可(kě)調

顯示屏

3.8寸觸摸屏

操作方式

自動和(hé)手動兩種方式均可(kě)

噪音(yīn)

56dB

抽真空時(shí)間

啓動到發輝光(guāng)35秒(時(shí)間可(kě)調)

真空檢測

數字顯示

冷(lěng)卻方式

強制風冷(lěng)

腔體門

高(gāo)強度鋁合金,橡膠圈密封

真空泵控制方式

主機與真空泵聯動,主機可(kě)以控制真空泵開關

供應電源

AC220V/50HZ

工作電流

不大(dà)于1.2A

平衡

不倒翁橡膠,自動平衡、減震

外形尺寸

400x450x250 ,     560x540x550,     650*550*475

流量計

                精密兩路

 

 

 

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