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型号:
HTR-01 桌式4英寸快(kuài)速退火爐

描述:HTR-01A快(kuài)速退火爐系列采用(yòng)紅外輻射加熱(rè)技術,可(kě)實現1-10片樣品同時(shí)進行,可(kě)實現4寸晶圓片吋樣品快(kuài)速升溫和(hé)降溫,同時(shí)搭配超高(gāo)精度溫度控制系統,可(kě)達到的(de)溫場(chǎng)均勻性,對(duì)材料的(de)快(kuài)速熱(rè)處理(lǐ)(RTP)、快(kuài)速退火(RTA)、快(kuài)速熱(rè)氮化(huà)(RTN)、快(kuài)速熱(rè)氧化(huà)(RTO)及金屬合金化(huà)等研究和(hé)生産起到重要作用(yòng)。

主要應用(yòng)領域:

快(kuài)速熱(rè)處理(lǐ)(RTP),快(kuài)速退火(RTA),快(kuài)速熱(rè)氧化(huà)(RTO),快(kuài)速熱(rè)氮化(huà)(RT

  • 廠商性質

    生産廠家
  • 更新時(shí)間

    2024-08-27
  • 訪問量

    576
詳細介紹
品牌Microtrac/拜爾産地類别國産
應用(yòng)領域電子,冶金,航天,電氣

HTR-01 桌式4英寸快(kuài)速退火爐

  

HTR-01A快(kuài)速退火爐系列采用(yòng)紅外輻射加熱(rè)技術,可(kě)實現1-10片樣品同時(shí)進行,可(kě)實現4寸晶圓片吋樣品快(kuài)速升溫和(hé)降溫,同時(shí)搭配超高(gāo)精度溫度控制系統,可(kě)達到的(de)溫場(chǎng)均勻性,對(duì)材料的(de)快(kuài)速熱(rè)處理(lǐ)(RTP)、快(kuài)速退火(RTA)、快(kuài)速熱(rè)氮化(huà)(RTN)、快(kuài)速熱(rè)氧化(huà)(RTO)及金屬合金化(huà)等研究和(hé)生産起到重要作用(yòng)。

主要應用(yòng)領域:

快(kuài)速熱(rè)處理(lǐ)(RTP),快(kuài)速退火(RTA),快(kuài)速熱(rè)氧化(huà)(RTO),快(kuài)速熱(rè)氮化(huà)(RTN);離子注入/接觸退火;

金屬合金;

熱(rè)氧化(huà)處理(lǐ);

化(huà)合物(wù)合金(砷化(huà)家、氮化(huà)物(wù)等);多(duō)晶矽退火;

太陽能電池片退火;高(gāo)溫退火;

高(gāo)溫擴散。

産品特點

● 快(kuài)速加熱(rè)和(hé)降溫: 最高(gāo)可(kě)控升溫速率可(kě)達50 ℃/s,特定條件下(xià)可(kě)以達到100 ℃/s。冷(lěng)壁水(shuǐ)冷(lěng)設計能夠達到較大(dà)的(de)降溫速率,特定條件下(xià)可(kě)達30 ℃/s。

● 精确控溫: 采用(yòng)工業級溫控器進行PID精确控溫,目标溫度與設定溫度曲線一緻性高(gāo),可(kě)實現室溫至1200 ℃的(de)溫度精确控制。

● 适應多(duō)種工藝環境: 滿足多(duō)種工藝氣氛下(xià)的(de)熱(rè)處理(lǐ)(氮氣、氩氣等)。同時(shí),通(tōng)過選配真空泵,可(kě)以在真空條件下(xià)進行退火,最高(gāo)真空度可(kě)達10-5Pa。

● 配備觀察窗(chuāng)口: 通(tōng)過觀察窗(chuāng)口,可(kě)以實時(shí)觀察熱(rè)處理(lǐ)過程中的(de)樣品變化(huà)。同時(shí),可(kě)以結合相關測試方法進行原位測試分(fēn)析。

● 超高(gāo)安全系數: 采用(yòng)爐壁超溫報警系統和(hé)冷(lěng)卻水(shuǐ)流量報警系統,保障儀器使用(yòng)安全。

● 售後服務:,能快(kuài)速反應客戶售後需求。



最大(dà)樣品尺寸

4英寸(直徑20mm)

控溫範圍

RT~1200

升溫速率(max)

50℃/s

高(gāo)溫段降溫速率(max)

600℃/min

溫度均勻性

≦1%

控溫精度

±0.1℃

氣體流量

标配1路,可(kě)擴展至多(duō)路

放樣管徑

Ф210mm*320mm

放樣數量

          4-10個(gè)

真空度

   真空度可(kě)以達到10-5

    控制方式

支持真空、氧化(huà)、還(hái)原、惰性氣體等工藝氣氛,也(yě)可(kě)設置通(tōng)過軟件控制真空及通(tōng)氣時(shí)間



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